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Band gap renormalization and work function tuning in MoSe2/hBN/Ru(0001) heterostructures

机译:mose2 / hBN / Ru(0001)中的带隙重整化和功函数调整   异质

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摘要

Here we report the successful growth of MoSe2 on single layer hexagonal boronnitride (hBN) on Ru(0001) substrate by using molecular beam epitaxy. Weinvestigated the electronic structures of MoSe2 using scanning tunnelingmicroscopy and spectroscopy. Surprisingly, we found that the quasi-particle gapof the MoSe2 on hBN/Ru is about 0.25 eV smaller than those on graphene orgraphite substrates. We attribute this result to the strong interaction betweenhBN/Ru which causes residual metallic screening from the substrate. The surfaceof MoSe2 exhibits Moir\'e pattern that replicates the Moir\'e pattern ofhBN/Ru. In addition, the electronic structure and the work function of MoSe2are modulated electrostatically with an amplitude of ~ 0.13 eV. Mostinterestingly, this electrostatic modulation is spatially in phase with theMoir\'e pattern of hBN on Ru(0001) whose surface also exhibits a work functionmodulation of the same amplitude.
机译:在这里,我们报告通过分子束外延,在Ru(0001)衬底上的单层六方氮化硼(hBN)上成功地生长了MoSe2。我们使用扫描隧道显微镜和光谱学研究了MoSe2的电子结构。出乎意料的是,我们发现在hBN / Ru上MoSe2的准粒子间隙比在石墨烯或石墨基底上的准粒子间隙小0.25 eV。我们将此结果归因于hBN / Ru之间的强相互作用,这导致从基材残留金属筛分。 MoSe2的表面表现出莫尔图案,该莫尔图案复制了hBN / Ru的莫尔图案。此外,MoSe2的电子结构和功函数经过静电调制,幅度约为0.13 eV。最有趣的是,这种静电调制在空间上与Ru(0001)上hBN的莫尔图案相同,后者表面也表现出相同幅度的功函数调制。

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